PVD镀膜的原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离，在电场的作用下，使被蒸发物质或其反应产物沉积在素材上。由于采用溅射的方式，自然对一些结构特殊的货品，比如带子节缝很紧，节缝处无法溅射进去，就会有漏镀的现象;异形结构的产品，凹槽位，也无法溅射进去，也会出现漏镀及起彩的现象，这是PVD镀镆技术的局限性。

电镀产品PVD镀膜前都需要清洗，对于一些有特殊要求的产品，上架方式需要特别注意，尤其是上入炉架，要校正角度，以满足客户的的特殊需求。需电镀的货品，上清洗架，那么产品一定需要有可上挂的位置，上挂的点漏镀的位置要事先跟客户确认好，可否接受。常规壳，圈，带可采用夹盘，抻盘，挂盘都可以把产品固定在清洗架上，以确保产品在清洗槽内，超声振动也不会掉落。同样的，货品进入真容炉体内，也需要上入炉架，因真空炉体是密封的空间，为保证颜色的均匀性，货品在炉体需要转动，产品也需要有挂点，所以PVD镀膜的产品没有挂点的话，无法实现真空炉内电镀。

PVD镀膜的局限性，行业同仁也在不停的研究，在不久的将来，相信会解决的。