PVD真空镀膜：是一种物理气相沉积工艺，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀素材上的薄膜技术。素材炉体镀成膜时有两个很重要条件，一是高真空状态，二是素材质量，所以，镀膜的素材表面必须是干净的、无任何附着物的条件下，才能进入炉体内，在高真空条件下完成镀膜。

对待电镀的素材胚料表面有比较高的要求：

1.表面不能有其它表面改性处理的附着层，如回火氧化层、电镀铬、氧化发黑层等。

2.表面不能有锈迹、油漆、胶水、烧焦料。

3.组合式的胚料或有特殊要求必须全方位电镀到的，必须完全拆解成单独部件，以便于电镀前的清洗。组合件清洗时会有脏污溢出，清洗不干净，加大了清洗难度，有些带子需要反复抽真空，烘烤才可以处理干净。组合件容易在炉体内的高温状态下因高温膨胀系数损坏被电镀的胚料。

4.焊接结构胚料的表面需要彻底清洁处理，不能有氧化层或埋孔，否则电镀膜层容易脱落，附着力差。

待真空镀膜电镀的素材必须达到以上表面要求，才能进炉真空炉体内电镀。一般情况下，素材表面在满足使用的条件下，表面光洁度越好，膜层结合力越好，效果也越好。